冷鏡式露點(diǎn)儀，使用二級(jí)半導(dǎo)體制冷片對(duì)鏡面制冷。當(dāng)被測(cè)氣體中的水蒸氣隨著鏡面溫度逐漸降低而達(dá)到飽和，當(dāng)鏡面溫度低于露點(diǎn)值時(shí)，凝結(jié)速度高于升華速度，露層增厚；反之露層減少。當(dāng)水蒸氣的凝結(jié)與升華速度平衡時(shí)，鏡面溫度即為露點(diǎn)溫度。

 

鏡面污染對(duì)露點(diǎn)測(cè)量有哪些影響？

 

在露點(diǎn)測(cè)量中，鏡面污染是一個(gè)突出的問題，其影響主要表現(xiàn)在兩個(gè)方面：一是拉烏爾效應(yīng)，二是改變鏡面本底散射水平。

拉烏爾效應(yīng)是由水溶性物質(zhì)造成的。如果被測(cè)氣體中攜帶這種物質(zhì)（一般是可溶性鹽類）則鏡面提前結(jié)露，使測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生正偏差。若污染物是不溶于水的微粒，如灰塵等，則會(huì)增加本底的散射水平，從而使光電露點(diǎn)儀發(fā)生零點(diǎn)漂移。此外，一些沸點(diǎn)比水低的容易冷凝的物質(zhì)（例如有機(jī)物）的蒸氣，不言而喻將對(duì)露點(diǎn)的測(cè)量產(chǎn)生干擾。因此，無論任何一種類型的露點(diǎn)儀都應(yīng)防止污染鏡面。一般說來，工業(yè)流程氣體分析污染的影響是比較嚴(yán)重的。但即使是在純氣的測(cè)量中鏡面的污染亦會(huì)隨時(shí)間增加而積累。為了消除污染的影響，人們摸索出各種各樣的方法。直觀的方法是對(duì)被測(cè)氣體進(jìn)行過濾。同時(shí)根據(jù)具體情況定期或隨時(shí)清洗鏡面。此外，通常采用的辦法是在每次測(cè)量前對(duì)鏡面進(jìn)行加熱，并通氣吹除污染物。在污染比較明顯的情況下也可以通過多次重復(fù)進(jìn)行結(jié)露和消露過程來實(shí)現(xiàn)。為了消除易冷凝碳?xì)浠衔锏母蓴_，有人采用雙鏡面技術(shù)，在露點(diǎn)室中增設(shè)一個(gè)與露鏡相連接的“干”鏡面，其溫度稍高于露鏡，當(dāng)氣進(jìn)入露點(diǎn)室時(shí)，“干”鏡受到和露鏡一樣的污染，但卻不會(huì)結(jié)露，從而提供補(bǔ)償。